成功案例

  • KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备 YIG 薄膜

    KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备 YIG 薄膜

    2023-03-08
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    案例简介:钇铁石榴石铁氧体 (YIG) 是一种在室温中广泛应用的亚铁磁性材料, 由于其铁磁共振线宽窄、电阻率高、高频损耗小以及具有较高的法拉第旋光效率和较低的传播损耗, 是

  • KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积铝锰合金薄膜

    KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积铝锰合金薄膜

    2023-03-08
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    案例简介:华北某大学实验室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 辅助磁控溅射沉积的方法在钕铁硼磁体表面制备了耐腐蚀性良好的铝锰合金薄膜.伯东 KRI 考夫曼射频离子源

  • KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射沉积 MnZn 铁氧体薄膜

    案例简介:电子系统在快速发展, 但是磁性器件二维化而引发与三维块材迥异的特性和制备工艺与半导体技术难以兼容的问题仍未能很好的解决. 因此 MnZn铁氧体作为一种优良磁性器

  • KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射制 TiSiN-Ag 薄膜

    案例简介:为了研究 Ag 元素对 TiSiN 薄膜结构及性能的影响, 江苏某大学课题组采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射法制备了不同 Ag 含量的 TiSiN-Ag 薄膜

  • KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜

    KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜

    2023-03-08
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    案例简介:铱 (Ir) 是一种很好的真空紫外反射材料. 在 50100nm 的波长范围内, Ir 膜反射率比此波长范围内常用材料 Au、Pt 都高, 虽比 Os 膜反射率稍低, 但后者时效效应严重

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